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HIFU (High intensity focused ultrasound: 高密度焦点式超音波) 技術を利用したスキンリフティングのための集中的な超音波治療機器として、U-one は高強度の超音波エネルギーが1点に集中する際に発生する65〜100 °Cの高熱を使用して皮膚組織を燃焼させます。診断に使用される超音波の強度の約100倍の超音波が1点に集中すると、その焦点に熱が発生します。これは、凸レンズを使用して太陽光を集中させたときに焦点部分に熱が発生する原理と似ています。
超音波自体は人体に無害であり、超 音波が集中的に焦点が当てられた場所にのみ熱を発生させるため、メスや針を使用することなく、また深さ3〜4mmの表皮への刺激をほとんど与えずに、皮膚の深部に強い熱エネルギーを届けることができます。
このとき発生するエネルギーはコラーゲンの活発な生成を誘導し、それによって表皮と真皮の生成を同時に誘導します。この選択的光熱損傷理論に基づいて、U-one はスキンリフティングのための新概念の超音波技術です。
STEP 1
HIFU を照射
STEP 2
ターゲット領域の
組織粒子間に振動を
誘導
STEP 3
摩擦による熱エネルギーを発生
STEP 4
凝固壊死帯を
形成
U-ONEの仕組み
カートリッジ内の振動子が高速で移動し、施術部位の近くに熱エネルギーを伝達します。
U-ONEの仕組み
1回の施術で SMAS の収縮、コラーゲンのリモデリング、エラスチン線維の収縮
UOne カ ートリッジの種類
USER INTERFACE
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